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    真空鍍膜機廠家告訴你真空電鍍設備中膜厚的不均勻性

    來源:www.molaisegaels.com發表時間:2022-08-15

    無論監視器的精度如何,它只能控制真空室中單個點的膜厚,一般來說,即工件夾持器的中間位置。如果真空電鍍設備的該位置處的膜厚度不是絕對均勻的,則遠離中心的基板不能獲得均勻的厚度。雖然屏蔽可以消除長期的不均勻性,但某些膜厚度變化是由于蒸發源的不穩定性或膜材料的不同性能造成的,因此幾乎不可能消除它們。然而,適當選擇真空室和蒸發源的結構可以最小化這些影響。
    在過去幾年中,越來越多的用戶要求涂層系統制造商提供高性能、小規模和簡單的光學涂層系統。同時,用戶對性能的要求并沒有降低,而是得到了改善,特別是在薄膜密度和最大限度地減少吸水后的光譜變化方面。
    現在,該系統的平均尺寸已經減小,用小型設備生產光學涂層也成為一個純粹的技術問題。因此,選擇現代光學涂層系統的關鍵在于仔細考慮以下因素:涂層產品的預期性能、基材的尺寸和物理特性,以及確保高度一致的工藝所需的所有技術因素。

      

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